ترسيب بالرش المهبطي

الترسيب بالرش المهبطي (Sputter Deposition) وهي تقنية تستخدم في صناعة مواد أقراص التخزين الجديدة وتحديداً أشرطة التخزين المغناطيسية وأفلام التخزين الرقيقة المفرغة، وتنطوي هذه العملية في إطلاق أيونات الآرغون على ركيزة من فيلم البوليمر مما يؤدي إلى إنتاج طبقات من جزيئات الكريستال المغناطيسي.[1][2][3]

مخطط جهاز الترسيب بالرش المهبطي

اقرأ أيضاً

مراجع
  1. J.A. Thornton (1974). "Influence of apparatus geometry and deposition conditions on the structure and topography of thick sputtered coatings". Journal of Vacuum Science and Technology. 11: 666–670. Bibcode:1974JVST...11..666T. doi:10.1116/1.1312732. الوسيط |CitationClass= تم تجاهله (مساعدة)
  2. B. A. Movchan & A. V. Demchishin (1969). "Study of the structure and properties of thick vacuum condensates of nickel, titanium, tungsten, aluminium oxide and zirconium dioxide". Phys. Met. Metallogr. 28: 83–90. الوسيط |CitationClass= تم تجاهله (مساعدة)
  3. Newbery, Dale.; et al. (1986). Advanced Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis. Plenum Press. ISBN 0-306-42140-2. الوسيط |CitationClass= تم تجاهله (مساعدة)
    • بوابة تقانة
    في كومنز صور وملفات عن: ترسيب بالرش المهبطي
    This article is issued from Wikipedia. The text is licensed under Creative Commons - Attribution - Sharealike. Additional terms may apply for the media files.